Оем югары чисталык 99,95% поляк нечкә вольфрам тәлинкәсе вольфрам таблицасы сәнәгать өчен
Продукция параметрлары
Бренд | HSG |
Стандарт | ASTMB760-07; GB / T3875-83 |
Сыйфат | W1, W2, WAL1, WAL2 |
Тыгызлыгы | 19.2г / цк |
Чисталык | ≥99.95% |
Размер | Калын0.05 мм мин * киңлек 300 мм макс * L1000 мм макс |
Faceир өсте | Кара / Алкалы чистарту / бизәлгән |
Эретү ноктасы | 3260С |
Процесс | кайнар әйләнеш |
химик состав
Химик состав | ||||||||||
Пычраклык эчтәлеге (%), ≤ | ||||||||||
Al | Ca | Fe | Mg | Mo | Ni | Si | C | N | O | |
Баланс | 0,002 | 0,005 | 0,005 | 0,003 | 0.01 | 0,003 | 0,005 | 0,008 | 0,003 | 0,005 |
Ensionлчәм һәм рөхсәт ителгән үзгәрешләр
Калынлык | Калынлык толерантлыгы | Киңлек | Киң толерантлык | Озынлык | Озынлык толерантлыгы | |
I | II | |||||
0.10-0.20 | ± 0.02 | ± 0.03 | 30-150 | ± 3 | 50-400 | ± 3 |
> 0.20-0.30 | ± 0.03 | ± 0.04 | 50-200 | ± 3 | 50-400 | ± 3 |
> 0.30-0.40 | ± 0.04 | ± 0.05 | 50-200 | ± 3 | 50-400 | ± 3 |
> 0.40-0.60 | ± 0.05 | ± 0.06 | 50-200 | ± 4 | 50-400 | ± 4 |
> 0.60-0.80 | ± 0.07 | ± 0.08 | 50-200 | ± 4 | 50-400 | ± 4 |
> 0.8-1.0 | ± 0.08 | ± 0.10 | 50-200 | ± 4 | 50-400 | ± 4 |
> 1.0-2.0 | ± 0.12 | ± 0.20 | 50-200 | ± 5 | 50-400 | ± 5 |
> 2.0-3.0 | ± 0.02 | ± 0.30 | 50-200 | ± 5 | 50-400 | ± 5 |
> 3.0-4.0 | ± 0.03 | ± 0.40 | 50-200 | ± 5 | 50-400 | ± 5 |
> 4.0-6.0 | ± 0.04 | ± 0.50 | 50-150 | ± 5 | 50-400 | ± 5 |
Feзенчәлек
Highгары эретү ноктасы, югары тыгызлык, югары температураның оксидлашу каршылыгы, озак хезмәт итү вакыты, коррозиягә каршы тору.
Вольфрам трубасы термокуплдан саклаучы трубада, сапфир кристалл мичтә һәм югары температуралы мичтә һ.б. киң кулланыла. Банго вольфрам торбаларын югары төгәллек, бетү өслеге, туры зурлык һәм югары температура деформациясе белән тәэмин итә ала.
Кушымта
Вольфрам тәлинкәсе кушымталары: А99.95% чисталык вольфрам тәлинкәсе
1. atылылыкка каршы тору компонентлары: җылылык калканы, югары температуралы вакуум мичнең җылыту элементы.
2. Вольфрам вакуум каплау һәм парга әйләнү өчен максатлар.
3. Электрон һәм ярым үткәргеч компонентлар.
4. Ион имплантацияләнгән компонентлар.
5. Сапфир кристалл мичләр һәм вакуум мичләр өчен вольфрам көймәләре.
6. Аңлашылмаган индустрия: кушылу реакторларының беренче стенасы